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小型蝕刻機

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產(chǎn)品型號

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產(chǎn)品簡介

大伙兒應(yīng)當都了解,在生產(chǎn)制造處理芯片的情況下,有兩個大中型機器設(shè)備,一個是光刻技術(shù),此外一個便是蝕刻機,那麼有的盆友便會問,什么叫光刻技術(shù),什么叫蝕刻機,它倆究竟有什么差別呢?今日我們就跟大伙兒好好說說哈,當期知識要點很聚集,大伙兒都聽好了哈

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大伙兒應(yīng)當都了解,在生產(chǎn)制造處理芯片的情況下,有兩個大中型機器設(shè)備,一個是光刻技術(shù),此外一個便是蝕刻機,那麼有的盆友便會問,什么叫光刻技術(shù),什么叫蝕刻機,它倆究竟有什么差別呢?今日我們就跟大伙兒好好說說哈,當期知識要點很聚集,大伙兒都聽好了哈。
這倆設(shè)備簡易的表述便是光刻技術(shù)把原理圖投射到遮蓋有光刻技術(shù)的單晶硅片上邊,刻蝕機再把剛剛畫了原理圖的單晶硅片上的不必要原理圖浸蝕掉,那樣看上去好像沒有什么難的,可是有一個品牌形象的形容,每一塊處理芯片上邊的電源電路構(gòu)造變大成千上萬倍看來比全部北京市都繁雜,這就是這光刻技術(shù)和蝕刻的難度系數(shù)。
光刻技術(shù)的全過程就是目前制做好的硅圓表層涂上一層光刻技術(shù)(一種能夠被光浸蝕的膠狀物化學(xué)物質(zhì)),接下去根據(jù)光源(加工工藝難度系數(shù)紫外線<深紫外線<極紫外線)通過掩膜照射硅圓表層(相近投射),由于光刻技術(shù)的遮蓋,照射的一部分被浸蝕掉,沒有陽光照射的一部分被留下,這些就是必須的電源電路構(gòu)造。
蝕刻分成二種,一種是干刻,一種是濕刻(現(xiàn)階段流行),說白了,濕刻便是全過程中有冰添加,將上邊歷經(jīng)光刻技術(shù)的圓晶與特殊的化學(xué)溶液反映,除掉不用的一部分,剩余的就是電源電路構(gòu)造了,干刻現(xiàn)階段都還沒完成商業(yè)服務(wù)批量生產(chǎn),其基本原理是根據(jù)等離子技術(shù)替代化學(xué)溶液,除去不用的硅圓一部分。
現(xiàn)階段在我國光刻技術(shù)和蝕刻機的發(fā)展趨勢非常尷尬,歸屬于比較嚴重兩極分化的狀況,中微半導(dǎo)體7nm蝕刻機的批量生產(chǎn),立即邁進隊伍,5nm蝕刻機也在試驗環(huán)節(jié),在這里兩條道路上,蝕刻機要繼續(xù)努力,而光刻技術(shù)則必須奮起直追。


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