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微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MPCVD爐

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微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MPCVD爐原理:通過等離子增加前驅(qū)體的反應(yīng)速率,降低反應(yīng)溫度

詳細(xì)介紹

微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MPCVD爐

原理:通過等離子增加前驅(qū)體的反應(yīng)速率,降低反應(yīng)溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結(jié)晶形態(tài)好的高質(zhì)量硬質(zhì)薄膜和晶體。

應(yīng)用:

大尺寸寶石級(jí)單晶鉆石;
高取向度金剛石晶體;
納米結(jié)晶金剛石;
碳納米管/類金剛石碳 ( DLC )。

微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MPCVD爐

產(chǎn)品特點(diǎn)
無(wú)需在樣品腔內(nèi)安裝內(nèi)部電極,在沉積腔內(nèi),沒有工作氣體以外的任何物質(zhì),潔凈,無(wú)污染源。等離子發(fā)生器可以保持長(zhǎng)壽命,并可以確保腔內(nèi)的等離子體的均勻分布,進(jìn)一步提升晶體的純凈度和生長(zhǎng)周期;
腔外多電極設(shè)置,確保等離子團(tuán)穩(wěn)定生成于腔內(nèi)中心位置,對(duì)腔壁、窗口等無(wú)侵蝕作用,減少雜質(zhì)來(lái)源,提高晶體純度。合成的金剛石,純度均在VVS級(jí)別以上;
電子溫度和離子溫度對(duì)中性氣體溫度之比非常高,運(yùn)載氣體保持合適的溫度,因此可使基底的溫度不會(huì)過高;
微波發(fā)生器穩(wěn)定易控,能在從1000Pa到室壓的高壓強(qiáng)環(huán)境下維持等離子體,在氣流、氣壓、氣體成分、電壓出現(xiàn)波動(dòng)時(shí),確保等離子體狀態(tài)的穩(wěn)定,保證單晶生長(zhǎng)的過程不被上述干擾而中斷,有利于獲得大尺寸單晶金剛石;
可以采用磁約束的方法,約束在等離子團(tuán)在約定的空間內(nèi),微波結(jié)和磁路可以兼容;
安全因素高。高壓源和等離子體發(fā)生器互相隔離,微波泄漏小,容易達(dá)到輻射安全標(biāo)準(zhǔn);
可搭配多種功率微波源和不同尺寸腔體,滿足從實(shí)驗(yàn)室小型設(shè)備到工業(yè)大型裝置的不同需要??梢詫?duì)300mm直徑的襯底沉積金剛石薄膜;


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