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FX41M研究級(jí)金相顯微鏡

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FX41M系列研究級(jí)倒置金相顯微鏡研究級(jí)理想型倒置金相顯微鏡，操作更簡(jiǎn)單，解決方案更多樣

詳細(xì)介紹

FX41M系列研究級(jí)倒置金相顯微鏡

研究級(jí)理想型倒置金相顯微鏡，操作更簡(jiǎn)單，解決方案更多樣。

● 該機(jī)采用全新設(shè)計(jì)的無(wú)限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)，可廣泛應(yīng)用于鑄造、冶煉、熱處理的研究，原材料檢驗(yàn)或材料處理分析等多種檢測(cè)的倒置顯微鏡。

● 為滿足用戶長(zhǎng)時(shí)間的觀察需求，F(xiàn)X-41M使用低手位操作模式，配備了360°旋轉(zhuǎn)雙目觀察筒，充分符合人體工程學(xué)觀察模式。

● 嚴(yán)格選用高透過(guò)率的鏡片和*的鍍膜技術(shù)，能夠真實(shí)還原樣品的自然色彩。

● 半復(fù)消色差設(shè)計(jì)具有的色差校正性能，提高了觀察圖像的襯度、清晰度。

每一個(gè)人性化的細(xì)節(jié)設(shè)計(jì)，都將您的研究帶往高品質(zhì)、易操作的方向。

舒適而簡(jiǎn)單的操作模式

● 眾多科研工作者，在長(zhǎng)達(dá)8 小時(shí)甚至十幾個(gè)小時(shí)的連續(xù)觀察后，不免感到眼睛和肢體的疲勞。峰志儀器為減輕疲勞，提高效率為目標(biāo)，配備高眼點(diǎn)360°旋轉(zhuǎn)式雙目觀察筒，無(wú)需依賴眼底提升器即可根據(jù)需求將眼點(diǎn)提升至30mm，即使在站立狀態(tài)下，也可輕松、快速的進(jìn)行觀察。

● 低手位操作模式，不必為長(zhǎng)時(shí)間手肘懸空操作帶來(lái)酸痛感而擔(dān)憂，用戶在調(diào)焦過(guò)程中，可將手肘放在工作臺(tái)上，峰志致力于為用戶帶來(lái)舒適的操作體驗(yàn)。

穩(wěn)定而貼心的外觀設(shè)計(jì)

● FX-41M 機(jī)身采用全金屬鑄造，表面經(jīng)防腐耐磨工藝處理，，堅(jiān)實(shí)穩(wěn)固。

● 載物臺(tái)自帶移動(dòng)鎖緊面板，有效避免在搬運(yùn)過(guò)程中由于平臺(tái)慣性移動(dòng)發(fā)生的碰撞。

● 機(jī)身后部帶有搬運(yùn)裝置，您可以輕松安全的進(jìn)行儀器的移動(dòng) ；充分利用機(jī)身內(nèi)置空間，放置儀器拆卸工具，通用于拆卸儀器的各主要部位，實(shí)用主義，收納便捷。

雙向線軌三層機(jī)械移動(dòng)平臺(tái)

● 配有240mm×250mm 大尺寸三層機(jī)械移動(dòng)平臺(tái)，移動(dòng)范圍50mm×50mm，可承載較厚且較大的樣品。平臺(tái)采用雙向線軌傳動(dòng)，手感更舒適，操作更靈活。

前置倍率顯示功能

● 全新添加物鏡倍率顯示功能，通過(guò)內(nèi)置倍率傳感器，將當(dāng)前倍率顯示在儀器正前方，使研究工作更加便捷。標(biāo)準(zhǔn)配置五孔內(nèi)定位明暗場(chǎng)轉(zhuǎn)換器，帶 DIC 滑槽。

全新智能 ECO 系統(tǒng)

● 如果長(zhǎng)時(shí)間的離開(kāi)，或者遺忘關(guān)閉儀器，全新添加的的ECO紅外感應(yīng)系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)關(guān)閉電源，當(dāng)您再次返回時(shí)重新開(kāi)啟，這項(xiàng)功能不僅可以節(jié)省能耗，而且可以延長(zhǎng)儀器使用壽命。

全面涵蓋明場(chǎng)/暗場(chǎng)/簡(jiǎn)易偏光/微分干涉等多種觀察方式適應(yīng)多種研究需求。

高襯度暗視場(chǎng)觀察	簡(jiǎn)易偏光觀察	DIC 微分干涉觀察
● 暗場(chǎng)觀察，其充分利用了物鏡的孔徑角，能夠清晰的觀察到金相組織的雜質(zhì) 及細(xì)微缺陷。 ● 明暗場(chǎng)觀察切換拉桿位于機(jī)身左側(cè)，只需輕推即可實(shí)現(xiàn)暗場(chǎng)觀察。	● 采用 360°旋轉(zhuǎn)式檢偏器可在不移動(dòng)標(biāo) 本的情況下，方便地觀察標(biāo)本在不同偏振角度光線下呈現(xiàn)的狀態(tài)?？稍谄裣?br> 統(tǒng)的基礎(chǔ)上加載全新研發(fā)的微分干涉器，建立諾曼爾斯基微分干涉襯比系統(tǒng)。	● 配置的微分干涉組件，可以將明視場(chǎng)觀察法中無(wú)法檢測(cè)到的高度差異，用增強(qiáng)的對(duì)比度以浮雕的形式表現(xiàn)出來(lái)，適用于檢測(cè)高度差異極其微小的樣品，包括金相組織、礦物、晶圓表面等。

PCB切片暗場(chǎng)	金相組織簡(jiǎn)易偏光	金相組織微分干涉