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勻膠顯影機

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產品簡介

產品介紹:名稱:勻膠顯影機型號:SC100-DE原產地:應用:SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備,它可以實現價值百萬美元設備(track)的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性

詳細介紹



產品介紹:


稱:勻膠顯影機

號:SC100-DE

原產地:

用:SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備,它可以實現價值百萬美元設備(track)的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。

產品概述:


SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備,它可以實現價值百萬美元設備(track)的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。
  不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀;工業(yè)級別200瓦伺服電機系統,采用與track設備相同設計和程序,使您的工藝更具有實際應用意義;同類產品中的達到50000RPM/S的旋轉加速度,確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和的可重復性。

性能參數:


l 主機機箱采用不銹鋼材料(抗化學腐蝕易清潔)

l 旋涂程序:最多可存100組程序,每組100步,每個步驟可精確到0.1

l 轉動速度:0-10,000rpm(更高速可選)

l 旋涂加速度:0-50,000rpm/sec(空載)

l 馬達旋涂轉速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm

l 轉速調節(jié)精度<1rpm,重復性< 1rpm

l 工藝時間設定: 0-3,000 sec/step,時間設置精度:0.1sec

l 支持wafer尺寸1cm-200mm8“圓晶)

l 標準配置兩路噴液系統(顯影液和去離子水)

產品特點:


l 主機在SC100-SE勻膠機上升級,增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋

l 全程序編輯功能,更方便的智能化操作,更好的顯影/清洗效果

l 可實現最多獨立四路噴液用于顯影/清洗工作,或進行氮氣吹干

l 控制器可實現程序自動控制噴液或進行手動操作,使用更加方便

l 顯影系統可進行噴霧式、柱流式多種選擇,視要求進行配置

l 提供客戶定制化的顯影系統配置和工裝設計

l 高可靠性和重復性,高轉速精度和更高轉速可選

l 可添加去邊膠和背膠清洗功能

產品外型尺寸:

433mm(D) * 306mm(W) * 306mm(H) – 標準設備結構

咨詢或索取詳細產品資料,請聯系ANALYSIS(安賽斯)工作人員。

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